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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Chen X (Chen Xi);  Zhong YA (Zhong Yuan);  Wang Q (Wang Qing);  Zhang YJ (Zhang Ye-Jin);  Chen LH (Chen Liang-Hui);  Chen, X, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Nanooptoelect Lab, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: chenxi@semi.ac.cn
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百纳米级窄线宽多种形貌全息光栅光刻胶图样的制备方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200810225785.7, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  陈熙;  钟源;  陈良惠
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