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在硅衬底上磁控溅射制备铁磁性锰硅薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-12-27, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  刘力锋;  陈诺夫;  尹志岗;  杨霏;  柴春林
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu LF;  Chen NF;  Wang Y;  Yin ZG;  Yang F;  Chai CL;  Zhang X;  Liu, LF, Peking Univ, Inst Microelect, Beijing 100871, Peoples R China. E-mail: lfliu@ime.pku.edu.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu LF;  Chen NF;  Wang Y;  Zhang X;  Yin ZG;  Yang F;  Chai CL;  Liu, LF, Peking Univ, Inst Microelect, Novel Devices Grp, Beijing 100871, Peoples R China. E-mail: lfliu@ime.pku.edu.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  刘力锋;  陈诺夫;  尹志岗;  杨霏;  周剑平;  张富强
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu LF;  Chen NF;  Chen CL;  Li YL;  Yin ZG;  Yang F;  Liu, LF, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: lfliu@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  宋书林;  陈诺夫;  周剑平;  尹志岗;  李艳丽;  杨少延;  刘志凯
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