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Ⅲ族氮化物单/多层异质应变薄膜的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2002-08-21, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  陈振;  陆大成;  刘祥林;  王晓晖;  袁海荣;  王占国
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Chen Z;  Lu DC;  Wang XH;  Liu XL;  Yuan HR;  Han PD;  Wang D;  Wang ZG;  Li GH;  Lu DC,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Lab Semicond Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Chen Z;  Yuan HR;  Lu DC;  Sun XH;  Wan SK;  Liu XL;  Han PD;  Wang XH;  Zhu QS;  Wang ZG;  Chen Z,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Lab Semicond Mat Sci,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Chen Z;  Lu DC;  Han P;  Liu XL;  Wang XH;  Li YF;  Yuan HR;  Lu Y;  Bing LD;  Zhu QS;  Wang ZG;  Wang XF;  Yan L;  Chen Z,Inst Semicond,Lab Semicond Mat Sci,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yuan HR;  Chen Z;  Lu DC;  Liu XL;  Han PD;  Wang XH;  Lu DC,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Lab Semicond Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yuan HR;  Lu DC;  Liu XL;  Chen Z;  Han P;  Wang XH;  Wang D;  Lu DC,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Lab Semicond Mat & Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Lu Y;  Liu XL;  Lu DC;  Yuan HR;  Chen Z;  Fan TW;  Li YF;  Han PD;  Wang XH;  Wang D;  Wang ZG;  Lu DC,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Lab Semicond Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Chen Z;  Lu DH;  Yuan HR;  Han P;  Liu XL;  Li YF;  Wang XH;  Lu Y;  Wang ZG;  Lu DH,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Lab Semicond Mat & Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  陈敦军;  毕朝霞;  沈波;  张开骁;  顾书林;  张荣;  施毅;  胡立群;  郑有（火+斗）;  孙学浩;  万寿科;  王占国
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  孙元平;  付羿;  渠波;  王玉田;  冯玉宏;  赵德刚;  郑新和;  段俐宏;  李秉臣;  张书明;  杨辉;  姜晓明;  郑文莉;  贾全杰
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