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SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)  > 会议论文

题名: Realization of SOI submicrometer optical waveguide components - art. no. 68380L
作者: Xu XJ;  Chen SW;  Yu JZ;  Tu XG
出版日期: 2008
会议日期: NOV 12-15, 2007
摘要: Submicrometer channel and rib waveguides based on SOI (Silicon-On-Insulator) have been designed and fabricated with electron-beam lithography and inductively coupled plasma dry etching. Propagation loss of 8.39dB/mm was measured using the cut-back method. Based on these so-called nanowire waveguides, we have also demonstrated some functional components with small dimensions, including sharp 90 degrees bends with radius of a few micrometers, T-branches, directional couplers and multimode interferometer couplers.
会议名称: 2nd Conference on Optoelectronic Devices and Integration
KOS主题词: semiconductor-insulator boundaries
会议文集: OPTOELECTRONIC DEVICES AND INTEGRATION II
专题: 中国科学院半导体研究所(2009年前)_会议论文

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推荐引用方式:
Xu, XJ ; Chen, SW ; Yu, JZ ; Tu, XG .Realization of SOI submicrometer optical waveguide components - art. no. 68380L .见:SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING .OPTOELECTRONIC DEVICES AND INTEGRATION II,1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, WA 98227-0010 USA ,2008,6838: L8380-L8380
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