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SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)  > 期刊论文

题名: Fabrication of high quality two-dimensional photonic crystal mask layer patterns
作者: Peng, YS (Peng, Yin-Sheng);  Xu, B (Xu, Bo);  Ye, XL (Ye, Xiao-Ling);  Niu, JB (Niu, Jie-Bin);  Jia, R (Jia, Rui);  Wang, ZG (Wang, Zhan-Guo)
发表日期: 2009
摘要: This work discusses the fabrication of two-dimensional photonic crystal mask layer patterns. Photonic crystal patterns having holes with smooth and straight sidewalls are achieved by optimizing electron beam exposure doses during electron beam lithography process. Thereafter, to precisely transfer the patterns from the beam resist to the SiO2 mask layer, we developed a pulse-time etching method and optimize various reaction ion etching conditions. Results show that we can obtain high quality two-dimensional photonic crystal mask layer patterns.
刊名: OPTICAL AND QUANTUM ELECTRONICS
专题: 中国科学院半导体研究所(2009年前)_期刊论文

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Peng, YS (Peng, Yin-Sheng); Xu, B (Xu, Bo); Ye, XL (Ye, Xiao-Ling); Niu, JB (Niu, Jie-Bin); Jia, R (Jia, Rui); Wang, ZG (Wang, Zhan-Guo) .Fabrication of high quality two-dimensional photonic crystal mask layer patterns ,OPTICAL AND QUANTUM ELECTRONICS,FEB 2009 ,41(3):151-158
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