一种去除熔体表面浮渣的技术
焦景华; 佘辉; 叶式中
1990-10-31
公开日期2009-06-04 ; 2009-06-11
专利类型发明
申请日期1990-06-15
语种中文
申请号CN90104283.8
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/2815
专题中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
焦景华,佘辉,叶式中. 一种去除熔体表面浮渣的技术[P]. 1990-10-31.
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