SEMI OpenIR  > 集成光电子学国家重点实验室
晶粒尺寸对氧化钒薄膜电学与光学相变特性的影响
梁继然; 胡明; 阚强; 陈涛; 梁秀琴; 陈弘达
2011
Source Publication材料工程
Volumexx(4)Pages:58-62
Abstract采用直流对靶磁控溅射方法制备氧化钒薄膜,通过改变热处理温度获得了具有不同晶粒尺寸的相变特性氧化钒薄膜,对氧化钒薄膜相变过程中电阻和红外光透射率随温度的突变性能进行研究。结果表明:经300℃和360℃热处理后,薄膜内二氧化钒原子分数达到40%,氧化钒薄膜具有绝缘体-金属相变特性,薄膜的晶粒尺寸分别为50nm和100nm;经360℃热处理后,氧化钒薄膜表面变得致密,晶粒之间出现了联并;电学和光学相变特性的表征结果表明,电学与光学相变温度随晶粒尺寸的增加而减小;电学相变持续的温度宽度为30℃,而光学相变持续的温度宽度仅为8℃,相变持续的温度宽度保持不变。
metadata_83集成光电子学国家重点实验室
Subject Area光电子学
Funding Organization国家高技术研究发展计划863资助,高等学校博士学科点专项科研基金(新教师类),集成光电子学国家重点实验室课题资助项目
Indexed ByCSCD
Language中文
CSCD IDCSCD:4288599
Date Available2012-07-17
Citation statistics
Cited Times:1[CSCD]   [CSCD Record]
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23278
Collection集成光电子学国家重点实验室
Recommended Citation
GB/T 7714
梁继然,胡明,阚强,等. 晶粒尺寸对氧化钒薄膜电学与光学相变特性的影响[J]. 材料工程,2011,xx(4):58-62.
APA 梁继然,胡明,阚强,陈涛,梁秀琴,&陈弘达.(2011).晶粒尺寸对氧化钒薄膜电学与光学相变特性的影响.材料工程,xx(4),58-62.
MLA 梁继然,et al."晶粒尺寸对氧化钒薄膜电学与光学相变特性的影响".材料工程 xx(4)(2011):58-62.
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