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SEMI OpenIR  > 半导体集成技术工程研究中心  > 专利

专利名称: 制作纳米管道的方法
发明人: 张加勇;  王晓峰;  杨富华;  王晓东
摘要: 一种制作纳米管道的方法,包括如下步骤:在衬底上生长一层抗腐蚀的电热绝缘材料层;在该电热绝缘材料层上淀积一层基底材料层并用光刻和干法刻蚀的方法去除基底材料层的四边,形成图形作为制备侧墙的基底;在该电热绝缘材料层的上面和去除基底材料层的上面及侧壁淀积侧墙材料层;采用干法回刻,去除基底材料层上表面的侧墙材料层及电热绝缘材料层表面的侧墙材料层,形成高和宽均为纳米尺寸的侧墙;用湿法腐蚀的方法去除基底材料层,只保留纳米尺寸的侧墙;采用光刻+剥离工艺或者光刻+干法刻蚀工艺在该侧墙材料层的相对两侧边上搭上一条制作纳米管道的抗腐蚀材料层;用湿法腐蚀方法去除侧墙同时留下抗腐蚀材料层,形成纳米尺寸的管道。
专题: 半导体集成技术工程研究中心 _专利

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