双极型晶体管与半导体激光器单片集成器件的制作方法
梁松; 朱洪亮; 王圩
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2011-08-31
授权国家中国
专利类型发明
摘要本发明公开了一种双极型晶体管与半导体激光器单片集成器件的制作方法,该方法包括:步骤1:选择一衬底;步骤2:在该衬底上依次生长缓冲层、下包层、亚集电极层、集电极层、基极层、量子阱有源区层、发射极层、上包层以及接触层;步骤3:制作该单片集成器件的激光器单元;步骤4:制作该单片集成器件的晶体管单元。利用本发明,由于激光器与双极型晶体管具有相同的材料结构以及制作工艺,所以大大简化了该种类型光电单片集成器件的制作。
部门归属中科院半导体材料科学重点实验室
专利号CN201010269026.8
语种中文
专利状态公开
申请号CN201010269026.8
专利代理人周国城
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22183
专题中科院半导体材料科学重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
梁松,朱洪亮,王圩. 双极型晶体管与半导体激光器单片集成器件的制作方法. CN201010269026.8.
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