| 图案化纳米模板及其制备方法 | |
董敬敬; 张兴旺 ; 尹志岗; 谭海仁; 高云; 张曙光; 白一鸣
| |
| 专利权人 | 中国科学院半导体研究所 |
| 公开日期 | 2011-08-31 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明 |
| 摘要 | 一种制备图案化纳米模板的方法，包括以下步骤：步骤1：利用提拉法，在亲水性良好的平面衬底上组装PS球，得到单层有序的PS球薄膜；步骤2：利用氧等离子体刻蚀PS球，改变PS球的大小；步骤3：旋涂异丙醇稀释的TiO2溶胶，静置待TiO2溶胶固化，使TiO2溶胶填充PS球间隙；步骤4：甲苯中超声完全去除PS球，得到图案化的纳米模板。 |
| 部门归属 | 中科院半导体材料科学重点实验室 |
| 专利号 | CN201010520234.0 |
| 语种 | 中文 |
| 专利状态 | 公开 |
| 申请号 | CN201010520234.0 |
| 专利代理人 | 汤保平 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22181 |
| 专题 | 中科院半导体材料科学重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 董敬敬,张兴旺,尹志岗,等. 图案化纳米模板及其制备方法. CN201010520234.0. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN201010520234.0.pdf（1544KB） | 限制开放 | -- | 请求全文 | |||
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