SEMI OpenIR  > 集成光电子学国家重点实验室
一种具备杂质深能级的晶体硅光伏电池的制备方法
韩培德
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2011-08-30
授权国家中国
专利类型发明
摘要本发明公开了一种具备杂质深能级的晶体硅光伏电池的制备方法,包括:步骤1:在弱n型Si衬底表面制绒,形成绒面;步骤2:在该绒面上制备具有杂质深能级的n型Si层;步骤3:在具有杂质深能级的n型Si层上覆盖p型半导体薄膜,与n型Si层形成pn结;步骤4:对形成pn结的掺杂Si片进行高温退火处理,以激活杂质;步骤5:在p型半导体薄膜上制备p电极,在n型Si层上制备第一n电极,在弱n型Si衬底下表面制备第二n电极。利用本发明,以实现Si对红外光的更多吸收;以实现对电池内建电场的调节,使其覆盖具有杂质深能级的n型Si层,从而分离该区域的光生电子—空穴对;以实现在杂质深能级上光生载流子的输出问题。从而提高了电池整体的光伏效率。
部门归属集成光电子学国家重点实验室
专利号CN201010183447.9
语种中文
专利状态公开
申请号CN201010183447.9
专利代理人周国城
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/21925
专题集成光电子学国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
韩培德. 一种具备杂质深能级的晶体硅光伏电池的制备方法. CN201010183447.9.
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