| 一种具备杂质深能级的晶体硅光伏电池的制备方法 |
| 韩培德
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专利权人 | 中国科学院半导体研究所
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公开日期 | 2011-08-30
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授权国家 | 中国
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专利类型 | 发明
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摘要 | 本发明公开了一种具备杂质深能级的晶体硅光伏电池的制备方法,包括:步骤1:在弱n型Si衬底表面制绒,形成绒面;步骤2:在该绒面上制备具有杂质深能级的n型Si层;步骤3:在具有杂质深能级的n型Si层上覆盖p型半导体薄膜,与n型Si层形成pn结;步骤4:对形成pn结的掺杂Si片进行高温退火处理,以激活杂质;步骤5:在p型半导体薄膜上制备p电极,在n型Si层上制备第一n电极,在弱n型Si衬底下表面制备第二n电极。利用本发明,以实现Si对红外光的更多吸收;以实现对电池内建电场的调节,使其覆盖具有杂质深能级的n型Si层,从而分离该区域的光生电子—空穴对;以实现在杂质深能级上光生载流子的输出问题。从而提高了电池整体的光伏效率。 |
部门归属 | 集成光电子学国家重点实验室
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专利号 | CN201010183447.9
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语种 | 中文
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专利状态 | 公开
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申请号 | CN201010183447.9
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专利代理人 | 周国城
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文献类型 | 专利
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条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/21925
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专题 | 集成光电子学国家重点实验室
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推荐引用方式 GB/T 7714 |
韩培德. 一种具备杂质深能级的晶体硅光伏电池的制备方法. CN201010183447.9.
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