SEMI OpenIR  > 半导体集成技术工程研究中心
The ICP etching technology of 3C-SiC films
Ning J (Ning Jin); Gong QC (Gong Quancheng); Sun GS (Sun Guosheng); Liu ZL (Liu Zhongli)
2006
会议名称International MEMS Conference 2006
会议录名称INTERNATIONAL MEMS CONFERENCE 2006, 34: 511-515 2006
会议日期MAY 09-12, 2006
会议地点Singapore, SINGAPORE
学科领域微电子学
收录类别CPCI(ISTP)
语种英语
文献类型会议论文
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/21414
专题半导体集成技术工程研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
Ning J ,Gong QC ,Sun GS ,et al. The ICP etching technology of 3C-SiC films[C],2006.
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