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氩离子在反应离子腐蚀III-V族材料中的应用 | |
李建中 | |
1990 | |
Source Publication | 半导体学报
![]() |
Volume | 11Issue:12Pages:937 |
metadata_83 | 中科院半导体所 |
Subject Area | 半导体化学 |
Indexed By | CSCD |
Language | 中文 |
CSCD ID | CSCD:112273 |
Date Available | 2010-11-23 |
Citation statistics | |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20505 |
Collection | 中国科学院半导体研究所(2009年前) |
Recommended Citation GB/T 7714 | 李建中. 氩离子在反应离子腐蚀III-V族材料中的应用[J]. 半导体学报,1990,11(12):937. |
APA | 李建中.(1990).氩离子在反应离子腐蚀III-V族材料中的应用.半导体学报,11(12),937. |
MLA | 李建中."氩离子在反应离子腐蚀III-V族材料中的应用".半导体学报 11.12(1990):937. |
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