氩离子在反应离子腐蚀III-V族材料中的应用

SEMI OpenIR > 中国科学院半导体研究所（2009年前）

	氩离子在反应离子腐蚀III-V族材料中的应用
	李建中
	1990
Source Publication	半导体学报
Volume	11 Issue:12 Pages:937
metadata_83	中科院半导体所
Subject Area	半导体化学
Indexed By	CSCD
Language	中文
CSCD ID	CSCD:112273
Date Available	2010-11-23
Citation statistics
Document Type	期刊论文
Identifier	http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20505
Collection	中国科学院半导体研究所（2009年前）
Recommended Citation GB/T 7714	李建中. 氩离子在反应离子腐蚀III-V族材料中的应用[J]. 半导体学报,1990,11(12):937.
APA	李建中.(1990).氩离子在反应离子腐蚀III-V族材料中的应用.半导体学报,11(12),937.
MLA	李建中."氩离子在反应离子腐蚀III-V族材料中的应用".半导体学报 11.12(1990):937.

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