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Al/a-Si:H界面反应和热处理行为光发射研究 | |
钟战天; 王大文; 廖显伯; 牟善明; 范越; 李承芳 | |
1991 | |
Source Publication | 半导体学报
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Volume | 12Issue:2Pages:68 |
metadata_83 | 中科院半导体所;清华大学 |
Subject Area | 半导体材料 |
Funding Organization | 国家自然科学基金 |
Indexed By | CSCD |
Language | 中文 |
CSCD ID | CSCD:140151 |
Date Available | 2010-11-23 |
Citation statistics | |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20319 |
Collection | 中国科学院半导体研究所(2009年前) |
Recommended Citation GB/T 7714 | 钟战天,王大文,廖显伯,等. Al/a-Si:H界面反应和热处理行为光发射研究[J]. 半导体学报,1991,12(2):68. |
APA | 钟战天,王大文,廖显伯,牟善明,范越,&李承芳.(1991).Al/a-Si:H界面反应和热处理行为光发射研究.半导体学报,12(2),68. |
MLA | 钟战天,et al."Al/a-Si:H界面反应和热处理行为光发射研究".半导体学报 12.2(1991):68. |
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