Al/a-Si:H界面反应和热处理行为光发射研究

SEMI OpenIR > 中国科学院半导体研究所（2009年前）

	Al/a-Si:H界面反应和热处理行为光发射研究
	钟战天; 王大文; 廖显伯; 牟善明; 范越; 李承芳
	1991
Source Publication	半导体学报
Volume	12 Issue:2 Pages:68
metadata_83	中科院半导体所;清华大学
Subject Area	半导体材料
Funding Organization	国家自然科学基金
Indexed By	CSCD
Language	中文
CSCD ID	CSCD:140151
Date Available	2010-11-23
Citation statistics
Document Type	期刊论文
Identifier	http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20319
Collection	中国科学院半导体研究所（2009年前）
Recommended Citation GB/T 7714	钟战天,王大文,廖显伯,等. Al/a-Si:H界面反应和热处理行为光发射研究[J]. 半导体学报,1991,12(2):68.
APA	钟战天,王大文,廖显伯,牟善明,范越,&李承芳.(1991).Al/a-Si:H界面反应和热处理行为光发射研究.半导体学报,12(2),68.
MLA	钟战天,et al."Al/a-Si:H界面反应和热处理行为光发射研究".半导体学报 12.2(1991):68.

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