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不同介质膜的InP MIS结构界面陷阱的研究 | |
卢励吾; 周洁; 瞿伟; 张盛廉 | |
1992 | |
Source Publication | 半导体学报
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Volume | 13Issue:4Pages:225 |
metadata_83 | 中科院半导体所 |
Subject Area | 半导体材料 |
Indexed By | CSCD |
Language | 中文 |
CSCD ID | CSCD:168652 |
Date Available | 2010-11-23 |
Citation statistics |
Cited Times:1[CSCD]
[CSCD Record]
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Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20231 |
Collection | 中国科学院半导体研究所(2009年前) |
Recommended Citation GB/T 7714 | 卢励吾,周洁,瞿伟,等. 不同介质膜的InP MIS结构界面陷阱的研究[J]. 半导体学报,1992,13(4):225. |
APA | 卢励吾,周洁,瞿伟,&张盛廉.(1992).不同介质膜的InP MIS结构界面陷阱的研究.半导体学报,13(4),225. |
MLA | 卢励吾,et al."不同介质膜的InP MIS结构界面陷阱的研究".半导体学报 13.4(1992):225. |
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