不同介质膜的InP MIS结构界面陷阱的研究

SEMI OpenIR > 中国科学院半导体研究所（2009年前）

	不同介质膜的InP MIS结构界面陷阱的研究
	卢励吾; 周洁; 瞿伟; 张盛廉
	1992
Source Publication	半导体学报
Volume	13 Issue:4 Pages:225
metadata_83	中科院半导体所
Subject Area	半导体材料
Indexed By	CSCD
Language	中文
CSCD ID	CSCD:168652
Date Available	2010-11-23
Citation statistics	Cited Times:1[CSCD] [CSCD Record]
Document Type	期刊论文
Identifier	http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20231
Collection	中国科学院半导体研究所（2009年前）
Recommended Citation GB/T 7714	卢励吾,周洁,瞿伟,等. 不同介质膜的InP MIS结构界面陷阱的研究[J]. 半导体学报,1992,13(4):225.
APA	卢励吾,周洁,瞿伟,&张盛廉.(1992).不同介质膜的InP MIS结构界面陷阱的研究.半导体学报,13(4),225.
MLA	卢励吾,et al."不同介质膜的InP MIS结构界面陷阱的研究".半导体学报 13.4(1992):225.

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