SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)
Ti和蓝宝石的界面反应
顾诠; 王佑祥; 崔玉德; 陈新; 陶琨
1996
Source Publication物理学报
Volume45Issue:5Pages:832
Abstract在超高真空中用电子束蒸发在抛光的(1102)取向的蓝宝石(a-Al_2O_3)衬底上蒸镀500 nm的Ti膜,在恒温炉中退火,然后用XRD(包括一般的和小角度的X射线衍射),AES和SIMS等表面分析技术详细研究了从室温至850℃,Ti与a-Al_2O_3的固相界面反应.首次系统提出了不同反应温区相应的化学反应式,讨论了采用体材料数据作热力学计算来预言Ti/a-Al_2O_3界面反应的局限性.
metadata_83中科院半导体所;清华大学材料所
Subject Area半导体化学
Funding Organization国家自然科学基金
Indexed ByCSCD
Language中文
CSCD IDCSCD:339970
Date Available2010-11-23
Citation statistics
Cited Times:2[CSCD]   [CSCD Record]
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19543
Collection中国科学院半导体研究所(2009年前)
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GB/T 7714
顾诠,王佑祥,崔玉德,等. Ti和蓝宝石的界面反应[J]. 物理学报,1996,45(5):832.
APA 顾诠,王佑祥,崔玉德,陈新,&陶琨.(1996).Ti和蓝宝石的界面反应.物理学报,45(5),832.
MLA 顾诠,et al."Ti和蓝宝石的界面反应".物理学报 45.5(1996):832.
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