Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
分子束外延材料表面椭圆缺陷的研究进展 | |
王红梅; 孔梅影 | |
1997 | |
Source Publication | 材料研究学报
![]() |
Volume | 11Issue:4Pages:337 |
Abstract | 综述了分子束外延材料的表面缺陷的种类、特征、起因、消除方法等,介绍了可能导致椭圆缺陷产生的重要因素,如Ga小液滴、Ga的氧化物及衬底沾污等,并提出相应的改进措施。 |
metadata_83 | 中科院半导体所 |
Subject Area | 半导体材料 |
Indexed By | CSCD |
Language | 中文 |
CSCD ID | CSCD:360993 |
Date Available | 2010-11-23 |
Citation statistics | |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19405 |
Collection | 中国科学院半导体研究所(2009年前) |
Recommended Citation GB/T 7714 | 王红梅,孔梅影. 分子束外延材料表面椭圆缺陷的研究进展[J]. 材料研究学报,1997,11(4):337. |
APA | 王红梅,&孔梅影.(1997).分子束外延材料表面椭圆缺陷的研究进展.材料研究学报,11(4),337. |
MLA | 王红梅,et al."分子束外延材料表面椭圆缺陷的研究进展".材料研究学报 11.4(1997):337. |
Files in This Item: | ||||||
File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
5791.pdf(640KB) | 限制开放 | -- | Application Full Text |
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment