SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)
分子束外延材料表面椭圆缺陷的研究进展
王红梅; 孔梅影
1997
Source Publication材料研究学报
Volume11Issue:4Pages:337
Abstract综述了分子束外延材料的表面缺陷的种类、特征、起因、消除方法等,介绍了可能导致椭圆缺陷产生的重要因素,如Ga小液滴、Ga的氧化物及衬底沾污等,并提出相应的改进措施。
metadata_83中科院半导体所
Subject Area半导体材料
Indexed ByCSCD
Language中文
CSCD IDCSCD:360993
Date Available2010-11-23
Citation statistics
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19405
Collection中国科学院半导体研究所(2009年前)
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GB/T 7714
王红梅,孔梅影. 分子束外延材料表面椭圆缺陷的研究进展[J]. 材料研究学报,1997,11(4):337.
APA 王红梅,&孔梅影.(1997).分子束外延材料表面椭圆缺陷的研究进展.材料研究学报,11(4),337.
MLA 王红梅,et al."分子束外延材料表面椭圆缺陷的研究进展".材料研究学报 11.4(1997):337.
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