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Ni?莫来石界面反应的XPS研究 | |
陈新; 王佑祥; 谢侃; 陈春华; 刘振祥; 刘志平; 高尚通 | |
1996 | |
Source Publication | 清华大学学报. 自然科学版
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Volume | 36Issue:增刊Pages:75 |
metadata_83 | 中科院半导体所;中科院物理所;电子部第13所 |
Subject Area | 半导体材料 |
Funding Organization | 国家自然科学基金 |
Indexed By | CSCD |
Language | 中文 |
CSCD ID | CSCD:520984 |
Date Available | 2010-11-23 |
Citation statistics | |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19015 |
Collection | 中国科学院半导体研究所(2009年前) |
Recommended Citation GB/T 7714 | 陈新,王佑祥,谢侃,等. Ni?莫来石界面反应的XPS研究[J]. 清华大学学报. 自然科学版,1996,36(增刊):75. |
APA | 陈新.,王佑祥.,谢侃.,陈春华.,刘振祥.,...&高尚通.(1996).Ni?莫来石界面反应的XPS研究.清华大学学报. 自然科学版,36(增刊),75. |
MLA | 陈新,et al."Ni?莫来石界面反应的XPS研究".清华大学学报. 自然科学版 36.增刊(1996):75. |
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