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用于共振腔光电探测器的Si基Bragg反射器 | |
李成; 杨沁清; 朱家廉; 王红杰; 成步文![]() | |
2000 | |
Source Publication | 半导体学报
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Volume | 21Issue:5Pages:483 |
Abstract | Si基共振腔型光电探测器的关键工艺是隐埋Bragg反射器镜面的制备。用PECVD方法在Si衬底上制备了SiO_xN_y/Si Bragg反射器,研究了Bragg反射器的反射谱和退火行为。 |
metadata_83 | 中科院半导体所;中科院半导体所国家光电子工艺中心 |
Subject Area | 光电子学 |
Funding Organization | 国家自然科学基金,国家863计划,国家自然科学基金 |
Indexed By | CSCD |
Language | 中文 |
CSCD ID | CSCD:532732 |
Date Available | 2010-11-23 |
Citation statistics | |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18795 |
Collection | 中国科学院半导体研究所(2009年前) |
Recommended Citation GB/T 7714 | 李成,杨沁清,朱家廉,等. 用于共振腔光电探测器的Si基Bragg反射器[J]. 半导体学报,2000,21(5):483. |
APA | 李成.,杨沁清.,朱家廉.,王红杰.,成步文.,...&彭晔.(2000).用于共振腔光电探测器的Si基Bragg反射器.半导体学报,21(5),483. |
MLA | 李成,et al."用于共振腔光电探测器的Si基Bragg反射器".半导体学报 21.5(2000):483. |
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