nc-Si/SiO_2多层薄膜的三阶非线性光学性质

SEMI OpenIR > 中国科学院半导体研究所（2009年前）

	nc-Si/SiO_2多层薄膜的三阶非线性光学性质
	郭震宁; 郭亨群; 何江流; 王加贤; 张文珍; 成步文; 李世忱
	2000
Source Publication	光电子·激光
Volume	11 Issue:4 Pages:359
metadata_83	天津大学精密仪器与光电子工程学院;华侨大学应用物理学系;中科院半导体所
Subject Area	半导体材料
Funding Organization	国家自然科学基金,集成光电子学联合国家重点实验室基金
Indexed By	CSCD
Language	中文
CSCD ID	CSCD:599757
Date Available	2010-11-23
Citation statistics
Document Type	期刊论文
Identifier	http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18489
Collection	中国科学院半导体研究所（2009年前）
Recommended Citation GB/T 7714	郭震宁,郭亨群,何江流,等. nc-Si/SiO_2多层薄膜的三阶非线性光学性质[J]. 光电子·激光,2000,11(4):359.
APA	郭震宁.,郭亨群.,何江流.,王加贤.,张文珍.,...&李世忱.(2000).nc-Si/SiO_2多层薄膜的三阶非线性光学性质.光电子·激光,11(4),359.
MLA	郭震宁,et al."nc-Si/SiO_2多层薄膜的三阶非线性光学性质".光电子·激光 11.4(2000):359.

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