高级检索   注册
SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)  > 期刊论文

题名: 在硅片上沉积厚二氧化硅的火焰水解法研究
作者: 郜定山;  李建光;  王红杰;  安俊明;  李健;  韩培德;  胡雄伟
发表日期: 2004
摘要: 用火焰水解和高温烧结的方法在单晶硅基片上制备了厚SiO2和B2O3-P2O5-SiO2光波导包层材料.并用扫描电镜(SEM)和X射线粉末衍射(XRD)方法对其微观形貌和物相结构进行了观察和检测.重点对硅基片上沉积厚SiO2时的龟裂和析晶问题进行了深入研究.从扫描电镜照片可以看出,火焰水解法形成的SiO2粉末呈多孔的蜂窝状结构.这种粉末具有很高的比表面积,因而很容易烧结成玻璃.X射线衍射图谱表明,这种粉末是完全非晶态的.经过烧结以后,从扫描电镜照片可以明显看出硅基片上的SiO2薄膜出现龟裂.同时,X射线衍射测试结果表明有少量SiO2析晶.而通过在SiO2中掺入B2O3、P2O5,上述龟裂和析晶完全消失.用这种工艺制备的SiO2波导包层材料厚度达到20 μm以上,表面光滑、没有龟裂,而且是完全玻璃态的,可以用于制备性能优良的各种硅基二氧化硅波导器件.
刊名: 光学学报
专题: 中国科学院半导体研究所(2009年前)_期刊论文

条目包含的文件

文件 大小格式
4754.pdf210KbAdobe PDF 联系获取全文


许可声明:条目相关作品遵循知识共享协议(Creative Commons)。


推荐引用方式:
郜定山;李建光;王红杰;安俊明;李健;韩培德;胡雄伟.在硅片上沉积厚二氧化硅的火焰水解法研究,光学学报,2004,24(9):1279-1282
个性服务
 推荐该条目
 保存到收藏夹
 查看访问统计
 Endnote导出
Google Scholar
 Google Scholar中相似的文章
 [郜定山]的文章
 [李建光]的文章
 [王红杰]的文章
CSDL跨库检索
 CSDL跨库检索中相似的文章
 [郜定山]的文章
 [李建光]的文章
 [王红杰]的文章
Scirus search
 Scirus中相似的文章
Social Bookmarking
  Add to CiteULike  Add to Connotea  Add to Del.icio.us  Add to Digg  Add to Reddit 
所有评论 (0)
暂无评论

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。

 

 

Valid XHTML 1.0! 版权所有 © 2007-2012  中国科学院半导体研究所  -反馈
系统开发与技术支持:中国科学院国家科学图书馆兰州分馆(信息系统部)
本系统基于 MIT 和 Hewlett-Packard 的 DSpace 软件开发