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SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)  > 期刊论文

题名: Polarization-Insensitive Silica on Silicon Arrayed Waveguide Grating Design
作者: An Junming;  Li Jian;  Gao Dingshan;  Xia Junlei;  Li Jiangang;  Wang Hongjie;  Hu Xiongwei
发表日期: 2004
摘要: A new technology for fabrication of silica on silicon arrayed waveguide grating (AWG) based on deep etching and thermal oxidation is presented.Using this method,a silicon layer is remained at the side of waveguide.The stress distribution and effective refractive index of waveguide fabricated by this approach are calculated using finite element and finite difference beam propagation method,respectively.The results of these studies indicate that the stress of silica on silicon optical waveguide can be matched in parallel and vertical direction and AWG polarization dependent wavelength (PDλ) can be reduced effectively due to side-silicon layer.
刊名: 半导体学报
专题: 中国科学院半导体研究所(2009年前)_期刊论文

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推荐引用方式:
An Junming;Li Jian;Gao Dingshan;Xia Junlei;Li Jiangang;Wang Hongjie;Hu Xiongwei.Polarization-Insensitive Silica on Silicon Arrayed Waveguide Grating Design,半导体学报,2004,25(11):1360-1363
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