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SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)  > 期刊论文

题名: Design and numerical analysis for low birefringence silica on silicon waveguides
作者: An Junming;  Li Jian;  Gao Dingshan;  Xia Junlei;  Li Jianguang;  Wang Hongjie;  Hu xiongwei
发表日期: 2004
摘要: A new fabrication technology for three-dimensionally buried silica on silicon optical waveguide based on deep etching and thermal oxidation is presented. Using this method, a silicon layer is left at the side of waveguide. The stress distribution and effective refractive index are calculated by using finite element method and finite different beam propagation method, respectively. The results indicate that the stress of silica on silicon optical waveguide fabricated by this method can be matched in parallel and vertical directions and stress birefringence can be effectively reduced due to the side-silicon layer.
刊名: Chinese Optics Letters
专题: 中国科学院半导体研究所(2009年前)_期刊论文

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An Junming;Li Jian;Gao Dingshan;Xia Junlei;Li Jianguang;Wang Hongjie;Hu xiongwei.Design and numerical analysis for low birefringence silica on silicon waveguides,Chinese Optics Letters,2004,2(8):456-458
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