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SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)  > 期刊论文

题名: 氧离子束辅助激光淀积生长ZnO/Si的研究
作者: 李庚伟;  吴正龙;  邵素珍;  张建辉;  刘志凯
发表日期: 2005
摘要: 利用X射线衍射(XRD),X射线摇摆曲线(XRC)和X射线光电子能谱(XPS)分析方法对氧离子束辅助激光淀积生长的ZnO/Si异质结薄膜进行了分析.结果表明:用该法可生长出高度c轴单一取向ZnO薄膜,XRC的半高宽度(FWHM)仅为2.918°.表明此生长方法经优化,可生长出单晶质量很好的ZnO/Si薄膜.
刊名: 材料导报
专题: 中国科学院半导体研究所(2009年前)_期刊论文

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李庚伟;吴正龙;邵素珍;张建辉;刘志凯.氧离子束辅助激光淀积生长ZnO/Si的研究,材料导报,2005,19(2):109-111
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