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SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)  > 期刊论文

题名: Effects of Thickness on Properties of ZnO Films Grown on Si by MOCVD
作者: Shen Wenjuan;  Wang Jun;  Duan Yao;  Wang Qiyuan;  Zeng Yiping
发表日期: 2005
摘要: High quality ZnO films are successfully grown on Si(100) substrates by metal-organic chemical vapor deposition at 300℃. The effects of the thickness of the ZnO films on crystal structure, surface morphology,and optical properties are investigated using X-ray diffraction, scanning probe microscopy,and photoluminescence spectra, respectively. It is shown that the ZnO films grown on Si substrates have a highly-preferential C-axis orientation,but it is difficult to obtain the better structural and optical properties of the ZnO films with the increasing of thickness. It is maybe due to that the grain size and the growth model are changed in the growth process.
刊名: 半导体学报
专题: 中国科学院半导体研究所(2009年前)_期刊论文

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Shen Wenjuan;Wang Jun;Duan Yao;Wang Qiyuan;Zeng Yiping.Effects of Thickness on Properties of ZnO Films Grown on Si by MOCVD,半导体学报,2005,26(11):2069-2073
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