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在双热舟化学气相沉积系统中通过掺In技术生长GaN纳米线和纳米锥 | |
刘仕锋; 秦国刚; 尤力平; 张纪才; 傅竹西; 戴伦 | |
2005 | |
Source Publication | 物理学报
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Volume | 54Issue:9Pages:4329-4333 |
Abstract | 在现有的一台蒸发镀膜机基础上,设计加工了一个双热舟化学气相沉积系统.该系统具有真空度高、升温速度快、源和衬底温度可分别控制等优点,有利于化合物半导体纳米材料的生长.利用该生长系统,通过在生长过程中掺入等电子杂质In作为表面活性剂,分别在野衬底和3C—SiC/Si衬底上生长出高质量的具有纤锌矿结构的单晶GaN纳米线和纳米尖三棱锥.所得产物通过场发射扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜、能量色散x射线谱仪、x射线衍射仪,和荧光谱仪进行表征.这里所用的生长方法新颖,生长出的GaN纳米尖三棱锥在场发射和激光方面有潜在的应用价值. |
metadata_83 | 北京大学物理学院;中国科学院半导体研究所;中国科学技术大学物理系 |
Subject Area | 半导体材料 |
Funding Organization | 国家纳米科学中心资助的课题,国家自然科学基金,集成光电子国家重点实验室资助 |
Indexed By | CSCD |
Language | 中文 |
CSCD ID | CSCD:2170567 |
Date Available | 2010-11-23 |
Citation statistics | |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16853 |
Collection | 中国科学院半导体研究所(2009年前) |
Recommended Citation GB/T 7714 | 刘仕锋,秦国刚,尤力平,等. 在双热舟化学气相沉积系统中通过掺In技术生长GaN纳米线和纳米锥[J]. 物理学报,2005,54(9):4329-4333. |
APA | 刘仕锋,秦国刚,尤力平,张纪才,傅竹西,&戴伦.(2005).在双热舟化学气相沉积系统中通过掺In技术生长GaN纳米线和纳米锥.物理学报,54(9),4329-4333. |
MLA | 刘仕锋,et al."在双热舟化学气相沉积系统中通过掺In技术生长GaN纳米线和纳米锥".物理学报 54.9(2005):4329-4333. |
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