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SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)  > 期刊论文

题名: Zn-doped InGaAs Base Heterojunction Bipolar Transistors Grown by Low Pressure Metal Organic Chemical Vapor Deposition
作者: LIN Tao;  CAI Daomin;  LI Xianjie;  JIANG Li;  ZHANG Guangze
发表日期: 2007
摘要: High performance InP/InGaAs heterojunction bipolar transistors(HBTs) have been widely used in high-speed electronic devices and optoelectronic integrated circuits. InP-based HBTs were fabricated by low pressure metal organic chemical vapor deposition(MOCVD) and wet chemical etching. The sub-collector and collector were grown at 655 ℃ and other layers at 550 ℃. To suppress the Zn out-diffusion in HBT, base layer was grown with a 16-minute growth interruption. Fabricated HBTs with emitter size of 2.5×20 μm~2 showed current gain of 70~90, breakdown voltage(BV_(CE0))>2 V, cut-off frequency(f_T) of 60 GHz and the maximum relaxation frequency(f_(MAX)) of 70 GHz.
刊名: Semiconductor Photonics and Technology
专题: 中国科学院半导体研究所(2009年前)_期刊论文

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推荐引用方式:
LIN Tao;CAI Daomin;LI Xianjie;JIANG Li;ZHANG Guangze.Zn-doped InGaAs Base Heterojunction Bipolar Transistors Grown by Low Pressure Metal Organic Chemical Vapor Deposition,Semiconductor Photonics and Technology,2007,13(3):215-217
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