SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)
采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能衍射微透镜
张新宇; 陈胜斌; 季安; 谢长生
2007
Source Publication半导体学报
Volume28Issue:10Pages:1625-1629
Abstract采用单步光刻和湿法腐蚀工艺,低成本快速制作面向高性能蓝光和红光DVD光学头物镜的衍射微透镜.所制微光学结构的表面粗糙度在纳米量级,衍射相位台阶的高度在亚微米量级并可以根据需求灵活调整,通光孔径在毫米至厘米量级的范围内可调.组成衍射微透镜的大量基本相位结构,可以根据入射和出射光束的形貌特征及参数指标,通过衍射积分算法灵活设置和排布.远场光学测试显示了所制衍射微透镜的高衍射效能.
metadata_83华中科技大学;中国科学院半导体研究所;武汉光电国家实验室
Subject Area微电子学
Funding Organization湖北省自然科学基金,控制与仿真技术国防科技重点实验室基金,航天创新技术基金资助项目
Indexed ByCSCD
Language中文
CSCD IDCSCD:2937331
Date Available2010-11-23
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Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16203
Collection中国科学院半导体研究所(2009年前)
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GB/T 7714
张新宇,陈胜斌,季安,等. 采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能衍射微透镜[J]. 半导体学报,2007,28(10):1625-1629.
APA 张新宇,陈胜斌,季安,&谢长生.(2007).采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能衍射微透镜.半导体学报,28(10),1625-1629.
MLA 张新宇,et al."采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能衍射微透镜".半导体学报 28.10(2007):1625-1629.
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