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SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)  > 期刊论文

题名: FORMATION OF SILICIDES IN THE TI, TI(OX)/SI(111), AND TISIO2/SI(111) SYSTEMS
作者: HSU CC;  WANG YX;  YIN SD;  LI BQ;  JI MR;  WU JX
发表日期: 1987
刊名: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
专题: 中国科学院半导体研究所(2009年前)_期刊论文

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HSU CC; WANG YX; YIN SD; LI BQ; JI MR; WU JX.FORMATION OF SILICIDES IN THE TI, TI(OX)/SI(111), AND TISIO2/SI(111) SYSTEMS,JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS,1987,5(4):1402-1406
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