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SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)  > 期刊论文

题名: DETERMINATION OF SURFACE-ROUGHNESS OF INP (001) WAFERS BY X-RAY-SCATTERING
作者: CUI SF;  LI JH;  LI M;  LI CR;  GU YS;  MAI ZH;  WANG YT;  ZHUANG Y
发表日期: 1994
摘要: The surface roughness of polished InP (001) wafers were examined by x-ray reflectivity and crystal truncation rod (CTR) measurements. The root-mean-square roughness and the lateral correlation scale were obtained by both methods. The scattering intensities in the scans transverse to the specular reflection rod were found to contain two components. A simple surface model of surface faceting is proposed to explain the experimental data. The sensitivities of the two methods to the surface structure and the role of the resolution functions in the CTR measurements are discussed.
KOS主题词: Photoelasticity;  Diffraction
刊名: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
专题: 中国科学院半导体研究所(2009年前)_期刊论文

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CUI SF; LI JH; LI M; LI CR; GU YS; MAI ZH; WANG YT; ZHUANG Y.DETERMINATION OF SURFACE-ROUGHNESS OF INP (001) WAFERS BY X-RAY-SCATTERING,JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,1994,76(7):4154-4158
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