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SEMI OpenIR  > 集成光电子学国家重点实验室  > 期刊论文

题名: Fabrication of a Low-Loss SSC Using High-Dose Electron Beam Lithography Exposure With Negative PMMA Resist
作者: Liu Y (Liu Yan);  Xu XJ (Xu Xuejun);  Xing B (Xing Bo);  Yu YD (Yu Yude);  Yu JZ (Yu Jinzhong)
发表日期: 2010
刊名: IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS
专题: 集成光电子学国家重点实验室_期刊论文

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Fabrication of a Low-Loss SSC Using High-Dose Electron Beam Lithography Exposure With Negative PMMA Resist.pdf409KbAdobe PDF 联系获取全文


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Liu Y (Liu Yan), Xu XJ (Xu Xuejun), Xing B (Xing Bo), Yu YD (Yu Yude), Yu JZ (Yu Jinzhong).Fabrication of a Low-Loss SSC Using High-Dose Electron Beam Lithography Exposure With Negative PMMA Resist.IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS, 22 (7): 501-503 APR 1 2010 ,2010,22(7):501-503
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